Çin'in EUV litografi sisteminin işlevsel bir prototipini geliştirdiği bildirildi. Bu gelişme, Batı'nın Çin'in çip üretim yetenekleri hakkındaki varsayımlarını sorguluyor. Sistem, yerel atılımlar ve gölge tedarik ağlarının bir karışımını kullanıyor. Uzmanlar seri üretime 2030 yılına kadar ulaşılabileceğini öne sürüyor. Bu, küresel yarı iletken manzarasında önemli bir değişime işaret ediyor.