Según se informa, China ha desarrollado un prototipo funcional de un sistema de litografía EUV. Este desarrollo desafía las suposiciones occidentales sobre las capacidades de fabricación de chips de China. El sistema utiliza una combinación de avances locales y redes de adquisiciones en la sombra. Los expertos sugieren que la producción en masa podría lograrse para 2030. Esto marca un cambio significativo en el panorama mundial de los semiconductores.