Сообщается, что Китай разработал функциональный прототип системы EUV-литографии. Такое развитие событий бросает вызов западным представлениям о возможностях Китая по производству чипов. Система использует сочетание местных прорывов и сетей теневых закупок. Эксперты предполагают, что массовое производство может быть достигнуто к 2030 году. Это знаменует собой значительный сдвиг в мировом полупроводниковом ландшафте.