Tiongkok dilaporkan telah mengembangkan prototipe fungsional sistem litografi EUV. Perkembangan ini menantang asumsi Barat mengenai kemampuan manufaktur chip Tiongkok. Sistem ini memanfaatkan perpaduan antara terobosan lokal dan jaringan pengadaan bayangan. Para ahli memperkirakan produksi massal dapat dicapai pada tahun 2030. Hal ini menandai perubahan signifikan dalam lanskap semikonduktor global.