گزارش شده است که چین نمونه اولیه عملکردی سیستم لیتوگرافی EUV را توسعه داده است. این توسعه، مفروضات غرب در مورد قابلیت های تولید تراشه چین را به چالش می کشد. این سیستم از ترکیبی از پیشرفت‌های بومی و شبکه‌های تدارکات در سایه استفاده می‌کند. کارشناسان پیشنهاد می کنند تولید انبوه تا سال 2030 محقق شود.