Secondo quanto riferito, la Cina ha sviluppato un prototipo funzionale di un sistema di litografia EUV. Questo sviluppo mette in discussione le ipotesi occidentali sulle capacità di produzione di chip della Cina. Il sistema utilizza un mix di innovazioni locali e reti di appalti ombra. Gli esperti suggeriscono che la produzione di massa potrebbe essere raggiunta entro il 2030. Ciò segna un cambiamento significativo nel panorama globale dei semiconduttori.