Berichten zufolge hat China einen funktionsfähigen Prototyp eines EUV-Lithographiesystems entwickelt. Diese Entwicklung stellt westliche Annahmen über Chinas Chip-Fertigungsfähigkeiten in Frage. Das System nutzt eine Mischung aus einheimischen Durchbrüchen und Schattenbeschaffungsnetzwerken. Experten gehen davon aus, dass die Massenproduktion bis 2030 erreicht sein könnte. Dies markiert einen bedeutenden Wandel in der globalen Halbleiterlandschaft.