A China teria desenvolvido um protótipo funcional de um sistema de litografia EUV. Este desenvolvimento desafia as suposições ocidentais sobre as capacidades de produção de chips da China. O sistema utiliza uma combinação de avanços internos e redes de compras paralelas. Os especialistas sugerem que a produção em massa poderá ser alcançada até 2030. Isto marca uma mudança significativa no cenário global de semicondutores.