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Litografia su chip: EUV ad alto NA in uso produttivo per la prima volta

Litografia su chip: EUV ad alto NA in uso produttivo per la prima volta

Internazionale 15/07/2026 Heise Online 👁 10
⚡ ⚡ Riepilogo rapido

Ora prima del previsto: Intel sta utilizzando per la prima volta in modo produttivo un sistema di litografia di prossima generazione.

📖 Fonte dell'articolo — 🇩🇪 Tedesco 🌐 Leggi l'articolo completo in italiano ← Indietro

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