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Lithographie sur puce : l'EUV à haute NA utilisé de manière productive pour la première fois

Lithographie sur puce : l'EUV à haute NA utilisé de manière productive pour la première fois

International 15/07/2026 Heise Online 👁 14

⚡ Résumé rapide

Plus tôt que prévu : Intel exploite pour la première fois de manière productive un système de lithographie de nouvelle génération.

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